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绿深水处理 纯水设备的应用范围：
1.半导体、单晶硅、集成电路、超大规模集成电路,显象管、触摸屏、液晶显示,高精度线路板,光学、光电类器件,各种电子器件,微电子工业、
IC 芯片封装行业,太阳能硅片清洗、 LCD 清洗等.
2.医药行业用水，生物、生化实验室用水,制药行业,无菌、无热源注射用水、制剂工艺用水，医院血液透析用水、生化分析用水、输液医药用水等。
3.热电厂用水处理、冶金工业用水处理、航天工业、汽车工业等.
4.制取热力、火力、涡轮发电锅炉用水，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。
二.绿深环境水处理事业部申蓝公司符合电子级用超纯去离子水设备工艺流程:
1.传统工艺:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→精密过滤器→阳离子树脂交换柱→阴离子树脂交换柱→阴阳离子树脂交换混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）.
2.新工艺一:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→RO前水泵→精密过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）
3.新工艺二:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→RO前水泵→精密过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→普通混床→抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）